반도체 공정내에서 Photo Resist 즉 PR은 Positive PR을 많이 쓰고있습니다. 그이유는 다음의 게시물에서 설명하였습니다. [반도체] - Photo Resist(PR) 그렇다면 Negative PR은 반도체 공정내에서 잘 사용하지 않고있다면, 어느 부분에서 많이 사용하고 있을까요? 바로 MEMS(Micro Electro Mechanical Systems) 분야에서 주로 사용되고 있습니다. 이번 게시물에서는 MEMS 과정중 사용되는 Negative PR( 그중에서 SU-8 )을 살펴보겠습니다. Negative PR(SU-8)의 모습입니다. 병에 담겨져있습니다. 이제 4인치의 Wafer 위에 Negative PR을 부어보겠습니다. 끈적임이 보이시나요? Negative PR은 Positive P..
Photo Resist 는 앞으로 알아볼 Photolithography(사진공정)에서 나올 내용이므로 미리 알아보겠습니다. 우선 단어의 뜯을 알아보겠습니다. 네이버 사전을 검색하면 각각 다음과 같은 뜻을 가지고있는 것을 볼 수 있습니다. photo는 '빛'과 관계됨을 resist는 저항하다라는 뜻을 가지고있습니다. 따라서 간단히 직역을 해보면 빛을 저항하다라고 볼 수 있습니다. 그럼 PhotoResist(PR)가 Photolithography(사진공정)에서 어떠한 형식으로 사용이 되는지 알아보겠습니다. 우선 PR의 역활에 대해서 간단하게 보겠습니다. Photolithography(사진공정)에서 말그대로 사진을 찍기 위해서는 사진을 찍을 판이 존재해야합니다. PR은 이러한 판 역활을 해준다고 생각하시면 편..
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